Deposizione di film di titanio su substrati di silicio tramite tecnica e-beam

Abstract

Questo tirocinio ha fatto parte delle operazioni di avviai spessore dell’ordine delle decine di nanometri (10^(-9) m), su substrati di silicio tramite e-beam deposition. I campioni prodotti sono stati successivamente caratterizzati con due diversi strumenti; un microscopio a forza atomica (AFM) e uno spettrometro XPS, in modo tale da studiarne la superficie sia dal punto di vista morfologico, che dal punto di vista chimico e da verificarne lo spessore.mento di un nuovo evaporatore presente al laboratorio condiviso DIFILab (realizzato dal Dipartimento di fisica grazie al finanziamento per i dipartimenti di eccellenza del MIUR 2018-2022). Il tirocinio è stato svolto al termine del collaudo e del training svolto dal personale di Kenosistec, ditta che ha venduto e installato l’apparecchio. Ci siamo concentrati sulla deposizione di film di titanio, d L’ottimizzazione del processo di deposizione dei film di titanio costituisce un primo passo importante per l’avviamento dell’evaporatore, che sarà poi utilizzato a regime in modalità condivisa, mettendo a disposizione dei gruppi di ricerca una serie di processi riproducibili.

.